In the work, a series of theoretical calculations were carried out to analyze the possibility of the process of explosive crystallization during laser treatment of binary amorphous alloys of the Fe-Zr system. The calculations were carried out within theframework of the modified theory of homogeneous crystallization for binary alloys, which takes into account the work associated with the concentration fluctuation. Calculation of the characteristics of the crystallization process was performed for two modes: slow heating at a speed of 0.16 K/s and an instant laser pulse, while it was considered that the amorphous tape was heated by a laser beam to a certain temperature within 10 - 6 seconds. The integral curve of the temperature dependence of the volume part of the crystalline phase during slow isothermal annealings is characterized by the presence of a "shelf", which indicates the twostage crystallization process. The temperature range of crystallization at slow heating (0.16 K/s) is 90 K. We analyzethe peculiarities of the crystallization process of amorphous alloys under the influence of laser treatment. The high heating rates, achieved by the laser treatment of amorphous alloys, create a number of differences in the course of crystallization &processes compared with crystallization during slow isothermal annealings. According to the calculations, impulse heating to temperatures below 550 K does not cause crystallization. After 551 K, there are significant changes in the crystallization ki&netics. At 552 K, the crystalline phase part has reached the value of 8 %. In the interval from 552 K to 553 K, there is a sharp jump in the value of the crystal phase proportion from 8 % to 99 %, that is a complete crystallization of the amorphous a&lloy occurs. The calculations carried out have shown that explosive crystallization may occur during the pulsed laser annealing of binary amorphous alloys of the Fe-Zr system. The temperature at which explosive crystallization is possible due to the &laser pulse was less than 60 K for the temperature of the beginning of intensive crystallization at slow heating.
Для аналізу можливості протікання процесу вибухової кристалізації при лазерній обробці бінарних аморфних сплавів системи Fe-Zr в роботі& було проведено ряд теоретичних розрахунків. Розрахунки проводились в рамках модифікованої теорії гомогенної кристалізації для бінарних сплавів, в якій врахована робота, пов"язана із флуктуацією концентрації. Розрахунки характеристик процесу кристалі&зації розраховувались для двох режимів: повільне нагрівання зі швидкістю 0.16 К/с та миттєвий лазерний імпульс, при цьому вважалось, що аморфна стрічка нагрівалась лазерним променем до певної температури за час 10 - 6 с. Інтегральна крива температурн&ої залежності об"ємної частки кристалічної фази під час повільних ізотермічних відпалів характеризується наявністю "полички", яка свідчить про двостадійність процесу кристалізації. Температурний інтервал кристалізації при повільному нагріванні склада&в 90 К. Високі швидкості нагрівання, що досягаються при лазерній обробці аморфних сплавів, створюють ряд відмінностей в протіканні процесів кристалізації у порівнянні з кристалізацією під час повільних ізотермічних відпалів. Згідно проведених розраху&нків, імпульсне нагрівання до температур менших за 550 К кристалізацію не викликає. Після 551 К відбуваються істотні зміни в кінетиці кристалізації. При 552 К частка кристалічної фази складає 8 %. В інтервалі від 552 К до 553 К спостерігається різкий& стрибок значення частки кристалічної фази від 8 % до 99 %, тобто відбувається повна кристалізація аморфного сплаву. Проведені теоретичні розрахунки показали, що при імпульсному лазерному відпалі в бінарних аморфних сплавах системи Fe-Zr може відбува&тися явище вибухової кристалізації. Температура, при якій можлива вибухова кристалізація за рахунок лазерного імпульсу виявилась меншою на 60 К за температуру початку інтенсивної кристалізації при повільному нагріванні.
