Magnetron sputtering device (MSD) with two erosion zones used for carbon films obtaining on Ni, Cu(CuxOx), Fe and NaCl substrates. The optimal deposition modes were chosen from Monte Carlo (MC) computer simulation. Characterizations of obtained carbon films were done by using of Raman spectroscopy and transmission electron microscopy (TEM). Demonstrated that Ni substrates provide a G-peak of Raman spectra closest to 1580 cm-1 and in some cases (Ni sputtered target) G peak of Raman spectra is over 1580 cm-1. This means a noticeable nanocrystalline structure with sp2 bonds.
Магнетронний розпорошувальний пристрій (МРП) із двома зонами ерозії було використано для осадження вуглецевих плівок на Ni, Cu(CuxOx), Fe та NaCl підкладках. Оптимальні режими осадження вибрано на основі комп"ютерного моделювання методом Монте-Карло. Дослідження отриманих вуглецевих плівок виконано за допомогою спектроскопії комбінаційного розсіювання світла та електронної просвітної мікроскопії. Показано, що Ni підкладки забезпечують G-пік спектра комбінаційного розсіювання світла близько 1580 см-1, а у випадку Ni підкладки з розпорошеною поверхнею частота G-піку перевищує 1580 cm-1. Це свідчить про наявність нанокристалічної структури з sp2-зв"язками.
Магнетронное распылител&ьное устройство (МРП) с двумя зонами эрозии было использовано для осаждения углеродных пленок на Ni, Cu (CuxOx), Fe и NaCl подложках. Оптимальные режимы осаждения избраны на основе компьютерного моделирования методом Монте-Карло. Исследование получен&ных углеродных пленок выполнено с помощью спектроскопии комбинационного рассеивания света и электронной просветной микроскопии. Показано, что Ni подложки обеспечивают G-пик спектра комбинационного рассеивания света около 1580 см-1, а в случае Ni подл&ожки с распыленной поверхностью частота G-пика превышает 1580 cm-1. Это свидетельствует о наличии нанокристаллической структуры с sp2-связями.
