Метою даної роботи є побудова комп"ютерної моделі магнетронного розпилювального пристрою для потреб нанотехнологій. Була розроблена програма, що дозволяє проводити якісний аналіз процесів іонізації та прискорення частинок у магнетронному розпилювальномупристрої з двома зонами ерозії, визначати їх розподіл по поверхні катода та енергію. За допомогою даної програми також було відтворене експериментально спостережене явище індивідуального запалювання окремих зон розряду при малих струмах та відповідних їм напругах. Як результат моделювання були отримані енергетичні спектри іонів, які бомбардують катод, їх розподіл по поверхні катода, що має важливе значення для аналізу процесу розпилення катоду-мішені.
The aim of this work is lo build the computer model of magnetron sputtering device for a nanotechnology needs. The developed program allows of making the qualitative analysis for processes of ionization and acceleration of particles in the planar sputtering magnetron device with two sputtering zones, todetermine their distribution on the cathode surface and energy. In modeling, the program also has had to reproduce the experimentally observed phenomenon of individual zones lighting at appropriate discharge at low currents and appropriate discharge &voltages. The energy spectra of ions, which bombard the cathode and their distribution over the cathode surface, were obtained as the results of simulation. The energy of these ions is important for analysis of the process of the cathode-target sputt&ering.
