Запропонована нова модель випадкової послідовної адсорбції для систем різних розмірів та з різними радіусами відштовхування частинок. Проведене її комп"ютерне моделювання, досліджені скейленгові властивості шероховатості поверхні та поведінка коефіциєнта заповнення поверхні, встановлено, що скейленговий показник шероховатості поверхні А не залежить від радіусувідштовхування частинок в системі, сі скейленговий показник В зі збільшенням радіусу відштовхування частинок зменшується, обчисленні їх значення.
Ключові слова: балістичне осадження, випадкове осадження, випадкова послідовна адсорбція, скейлінговий показник, шероховатість поверхні.
A new model of the random sequential adsorption has been proposed for the systems of different sizes and with different radii of repulsion of particles. It is simulated by computer, scaling properties of the interface width and the behavior of the coefficient of surface filling are examined, established that scaling exponent of the interface width А does not depend upon radius of the repulsion of the particles within the system, and scaling exponent В with increase of repulsion radius of particles is being decreased, their meanings are calculated.
Key words: ballistic deposition, random deposition, random seque&ntial adsorption, scaling exponent, interface width.
