Запропоновано отримання вуглецевих наноструктур методом ближньопольового оптичного хімічного осадження з газової фази молекул тетрахлористого вуглецю ССl4. В даному випадку процес фотодисоціації може відбуватися при нерезонансних умовах завдяки властивостям взаємодії випромінювання і речовини в області ближнього поля. Були отримані вуглецеві наноструктури розмірами до 100 н.м. Особливістю даного методу є те, що він дає можливість працювати з різними довжинами хвиль у різних газових середовищах для осадження різноманітних нанорозмірних матеріалів.
Ключові слова: хімічна фотодисоціація, оптичне ближнє поле, наноструктури.
Synthesis of carbon nanostructures using near field chemical vapour deposition of gas-phase carbon tetrachloride СCL4 was proposed.In this case, photo dissociation can take place under nonresonant conditions due to inherent properties of optical near field. Carbon structures less than 100 nm were obtain. This technique makes it possible to use various light and gas sources to deposit a variety of nanometric materials.
Key Words: chemical photo-dissociation, optical near field, nanostructures.
