В роботі досліджено плазмову обробку водних розчинів фенолу в газорідинному плазмо-хімічному реакторі з вторинним розрядом в режимах "рідкого" аноду та "рідкого" катоду. Методами оптичної УФ спектрофотометрії проаналізовано продукти та сам процес деструкції фенолу після обробки. Знайдено, що деградація фенолу йде і після припинення дії плазми, що еквівалентно зменшенню витрат енергії та збільшенню загальної ефективності обробки. Вивчено дію малих доз УФ опромінення на стабілізацію водних розчинів післяплазмової обробки. Показано, що властивості вихідного продукту в процесі його старіння після обробки залежать від концентрації фенолу.
Ключові слова: плазмохімія, вторинний розряд, фенол, деструкція.
The technology of plasma processing of aqueous phenol solutions in a gas-liquid plasma-chemical reactor with a secondary discharge in regimes of "liquid" anode and "liquid" cathode is studied. The products and the process of the phenol destruction after the treatment are analyzed by means of optical UV spectrophotometry. The effect of prolonged phenol degradation after the end of the plasma action lowering the energy consumption and raising the total efficiency of the treatment is demonstrated. The action of low-dose UV irradiation on the stabilizati&on of plasma-treated phenol solutions is also investigated. It is shown that the properties of the output product during its aging after the treatment depend on the phenol concentration
Key Words: plasma-chemistry, secondary discharge, phenol, destr&uction.
З 31.12.2014 по 01.03.2015 Наукова бібліотека читачів не обслуговує.
