Розглянуто механізм впливу хлору та водню на зміну електрофізичних параметрів контактних структур на основі кремнію з надтонкими плівками діоксиду олова, що отримані методом піролітичного осадження. Досліджено властивості гетероструктур з плівками, які мають різний ступінь пористості. Показано, що вплив зміни газового середовища обумовлює зміну висоти потенціального бар"єра в гетероструктурі, яка визначається внесенням заряду різного знака (у випадку водню та хлору) в адсорбційно активний шар гетероструктури. При цьому властивості гетероструктури залежать від ступеня пористості адсорбційно активного шару.
The mechanism of influence of chlorine and hydrogen at the change of electophysical parameters of the contact structures on the basis of silicon with nano scale films of dioxide of tin, that are obtained by the method of pyrolytic deposition is considered. The consideration of heterostructures properties with the films which have the different degree of porosity is carried out. Is shown, that the change of the gas environment is the result of the change of the potential barrier height in the heterostructure, that stipulated by the adsorption of the charges of the different sign (in case of hydrogen and chlorine) in the adsorptive active layer o&f the heterostructure. Thus the properties of the heterostructure depend on the degree of the porosity of adsorptive active layer.
