Опис документа:
| |
| Шифр: |
53 |
| Авт. знак: |
Thin |
| Назва: | Thin films |
| Відповідальність: |
Editors: S.M. Rossnagel, A.Ulman a.o |
| Видавництво: | Academic press |
| Місто: | San Diego a.o. |
| Рік: | 1999 |
| Номер частини: |
Vol.26 |
| Назва частини: |
PVD for microelectronics: sputter deposition applied to semiconductor manufacturing /R. A. Powell, S.M.Rossnagel |
| Сторінок: | 13,419p. |
| ББК: |
В371.26 |
| ISBN: | 0-32-533026-X |
| Тип документу: |
Книга |
| Документ знаходиться у фонді ФІЗИЧНОГО факультету за адресою: проспект акад. Глушкова 4, четвертий поверх, кім. 400,402. |
|
|
|
|
