Determining the thickness of transparent film deposited on transparent substrate causes difficulties because the common optical methods are unsuitable. In this paper, the film thickness was determined from the plasma wavelength obtained from infrared reflection spectra. Matching results obtained with profilometer method confirms the possibility of both methods of thickness measurement for ITO thin films. Their relationship with the mechanical properties of film deposition system simplifies the definition of film thickness.
Визначення товщини прозорої плівки, нанесеної на прозору підкладку, викликає труднощі, тому що найбільш поширені оптичні методи виявились непридатними. У цій статті товщина плівки була визначена за плазмовою довжиною хвилі, отриманої зі спектрів відбиття інфрачервоного випромінення. Узгодження отриманих результатів із отриманими методом профілометрії підтверджує можливість використання обох методів вимірювання товщини для тонких плівок ITO. Їхній зв"язок з механічними властивостями системи осадження плівки спрощує визначення її товщини.
Определение толщины прозрачной пленки, нанесенной на прозрачную подложку, вызывает трудности, так как наиболее распространенные оптические методы оказались непригодными. В этой статье толщина &пленки была определена по плазменной длиной волны, полученной из спектров отражения инфракрасного излучения. Согласование полученных результатов с полученными методом профилометрии подтверждает возможность использования обоих методов измерения толщин&ы для тонких пленок ITO. Их связь с механическими свойствами системы осаждения пленки упрощает определение ее толщины.
